所謂的常規真空工藝是指沒有特殊要求的真空工藝。這種真空設備(設備)的真空衛生要求是必需的。

　　(1)處於真空狀態的真空設備各部分不需要累積汙染源，表麵無灰塵，鐵鏽或鏽蝕;

　　(2)真空設備真空室表麵應光滑，無鬆動軟組織和氣孔，無內部焊縫，會影響真空缺陷;

　　(3)在高真空設備中，真空室內的運動部件不得使用機油作潤滑劑，要采用低飽和蒸氣壓擴散泵油和矽油作潤滑劑;法蘭和觀察窗的密封部位應塗高真空油脂;

　　(4)真空設備一般應工作在溫度15〜30℃，相對濕度不高於70%的清潔空氣循環環境中。冷卻水入口溫度不高於25°C。電氣真空工藝對環境的要求電氣真空結構材料除具有良好的機械性能和加工性能外，還要滿足其他性能要求，即易脫氣，低飽和蒸氣壓，一定的化學穩定性，一定的度數純度和清潔度，合適的輻射能力等等。因此，電真空過程具有特殊性，並且對清潔過程的要求非常嚴格，並且應該消除或最大限度地減少部件的汙染。真空鍍膜工藝的環境要求真空鍍膜工藝基板(基板)表麵的清潔工藝非常重要。在基材進入鍍膜室之前，應在鍍前仔細清潔，以達到除油，去汙和脫水的目的。 基材的表麵汙染來自加工，傳輸和包裝過程中附著在零件上的各種灰塵，拋光膏，油脂，汗漬等;在濕空氣中在部件表麵上形成的氧化膜;吸收和吸附在零件表麵的氣體。大部分這些汙垢可以通過除油或化學清洗來去除。

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